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UpNano GmbH:研發(fā)新型框架,補(bǔ)償雙光子聚合 (2PP)打印基板傾斜度,提高精度!

3D打印動態(tài)
2022
08/27
23:15
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2022年8月27日,南極熊獲悉,UpNano GmbH開發(fā)了一種新型框架可以在打印時(shí)補(bǔ)償雙光子聚合 (2PP) 3D打印基板中的微小傾斜度,提高打印精度。可以說活,新開發(fā)的傾斜框架有助于最大限度地提高打印結(jié)果的精度,尤其是大型結(jié)構(gòu)。



UpNano GmbH(奧地利)在國際上推出了“傾斜框架”。該框架可以配備用于2到6英寸工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)晶圓的卡盤支架。利用此款框架,在長達(dá) 4 英寸的晶圓整個(gè)表面上進(jìn)行 2PP 3D 打印已成為現(xiàn)實(shí)。傾斜框架適合UpNano的任何NanoOne系列設(shè)備,它們是由激光驅(qū)動的2PP 3D 打印系統(tǒng),可以以極高的速度構(gòu)建跨越12個(gè)數(shù)量級的結(jié)構(gòu)。


△NanoOne打印機(jī)

NanoOne 系列可以打印納米分辨率以及厘米尺寸的結(jié)構(gòu)。它已被用于電子、微光學(xué)以及細(xì)胞和醫(yī)學(xué)研究中的生物相容性應(yīng)用。在 2PP 3D 打印中,尺寸參數(shù)是十分重要的。打印結(jié)構(gòu)越大,設(shè)備中任何微小的不均勻性就越會影響最終產(chǎn)品的精度。使用 NanoOne,可以顯著減少微型零件的生產(chǎn)時(shí)間和單位成本,而不會犧牲分辨率和公差。基于多光子光刻技術(shù)的多功能技術(shù)可用于制造結(jié)構(gòu)在 170 nm 范圍內(nèi)的超細(xì)組件和厘米范圍內(nèi)的宏觀微型零件。NanoOne 的寫入速度高達(dá) 1,000 mm/s,吞吐量高達(dá) >450 mm3/h,將高性能與用戶友好相結(jié)合。


△可打印超細(xì)組件和宏觀微型零件


△UpNano研發(fā)了傾斜框架,能夠最大限度地提高精度。 用于2PP 3D打印的帶傾斜補(bǔ)償?shù)幕逯Ъ堋?br />
UpNano GmbH 通過推出其傾斜框架解決了上述問題,可以糾正微米范圍內(nèi)的不均勻性。Tilt Frame 可以使用各種支架進(jìn)行擴(kuò)展,最大可以用于 6 英寸晶圓的卡盤支架。晶圓的整個(gè)表面(最大 4 英寸)現(xiàn)在都可以進(jìn)行 2PP 3D 打印。

UpNano 的營銷和業(yè)務(wù)開發(fā)主管兼聯(lián)合創(chuàng)始人 Denise Hirner 解釋說:“此款框架適配于NanoOne打印機(jī),可以最大限度地提高打印結(jié)果的精度,尤其是大型結(jié)構(gòu)。



傾斜框架可以單獨(dú)訂購,并且可以輕松安裝到現(xiàn)有的 NanoOne 打印機(jī)上,或作為任何新 NanoOne 的預(yù)安裝附件。該框架能夠校正 μm 范圍內(nèi)的基板傾斜度。校正值通過 NanoOne 自動對焦獲得,該自動對焦在基板的三個(gè)點(diǎn)進(jìn)行高度測量;谶@些測量,電腦自動計(jì)算校正值。實(shí)際使用中,有兩個(gè)版本的傾斜框架可供選擇,其一是價(jià)格具有競爭力的手動版本,該版本使用高精度校正螺釘,其二是自動版本,使用軟件控制的精密電機(jī)進(jìn)行校正。該框架與 NanoOne 系列可用的所有光學(xué)器件兼容,即 5x、10x、20x 和 40x 物鏡。

Denise Hirner 說道:“NanoOne 可以以高達(dá) 1,000 mm/s 的驚人寫入速度進(jìn)行打印,并實(shí)現(xiàn)高達(dá) 200 mm3/h 的吞吐量。再加上新獲得的打印高達(dá) 4 英寸的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)晶圓的整個(gè)表面的能力,首次實(shí)現(xiàn)了 2PP 3D 精度的批量生產(chǎn)。

UpNano 還在 Tilt Frame 產(chǎn)品組合中增加了一個(gè)光纖支架和一個(gè)插芯支架。通過將這些支架與來自 UpNano 產(chǎn)品組合的具有光學(xué)特性的打印材料一起使用,該材料已針對該工藝進(jìn)行了優(yōu)化,集成光學(xué)系統(tǒng)可以高精度地定位和制造在光纖的尖端上。


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