供稿人:劉小棟 連芩
供稿單位:機(jī)械制造系統(tǒng)工程國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室
電氣設(shè)備的運(yùn)行會(huì)產(chǎn)生越來(lái)越多的電磁(EM)輻射和干擾,導(dǎo)致儀器和無(wú)線(xiàn)通信設(shè)備必須承受?chē)?yán)重的EM波干擾,阻礙儀器和設(shè)備的安全運(yùn)行。因此,應(yīng)開(kāi)發(fā)具有寬范圍和高吸收效率的新型電磁吸收材料,以滿(mǎn)足現(xiàn)代電磁衰減的要求并保護(hù)設(shè)備免受電磁干擾。傳統(tǒng)的電磁吸收材料的制備方法是基于減法制造,因此難以適應(yīng)目前的批量生產(chǎn)和定制成型的制造趨勢(shì),這極大地限制了電磁吸收材料的應(yīng)用和開(kāi)發(fā)。
西北工業(yè)大學(xué)成來(lái)飛等使用光固化3D打印技術(shù)制造了具有寬帶電磁吸收能力的SiC納米線(xiàn)/丙烯酸樹(shù)脂(SiCnw/ACR)復(fù)合材料,通過(guò)改變SiC納米線(xiàn)含量和打印層厚來(lái)調(diào)整復(fù)合材料的電磁吸收能力。
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2020-9-16 09:23 上傳
圖1 光固化理論及樣本微觀(guān)形貌
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(a)密度
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(b)電導(dǎo)率 圖2 光固化樣本密度及電導(dǎo)率 圖2表明,當(dāng)打印層的厚度從25μm增加到100μm時(shí),密度降低,并且隨著SiCnw的含量從2wt%增加到4wt%,導(dǎo)電率顯著增加。
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圖3 SiCnw / ACR復(fù)合材料樣品的反射損耗:(a1-a3)SiCnw的添加量為2wt%,打印層厚分別為25、50和100μm;(b1-b3)SiCnw的添加量為3wt%,打印層厚分別為25、50和100μm;(c1-c3)SiCnw的添加量為4wt%,打印層厚分別為25、50和100μm。 圖3表明,當(dāng)SiCnw含量為3wt%且打印層厚為25-50μm時(shí),SiCnw / ACR復(fù)合材料的最佳吸收帶寬(EAB)以及對(duì)EM吸收的效率都很高,這主要是由于較高的介電損耗以及材料與自由空間之間的適當(dāng)阻抗匹配引起的。在C頻段(4-8GHz)中,EAB達(dá)到2.9GHz,反射損耗(RL)達(dá)到-34.1dB;在X頻段(8-12GHz),EAB達(dá)到4GHz,覆蓋整個(gè)X頻段,RL達(dá)到-34.5dB;在Ku頻段(12-18GHz)中,EAB超過(guò)6GHz,覆蓋了整個(gè)Ku頻段,并且RL達(dá)到-34.7dB。
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圖4 SiCnw對(duì)三點(diǎn)彎曲強(qiáng)度的影響 從圖4可以看出加入SiCnw后,彎曲強(qiáng)度和模量均大大提高,表明SiCnw對(duì)復(fù)合材料的機(jī)械性能有益。
參考文獻(xiàn):
[1] Shanshan, Xiao, et al. 3D printed SiC nanowire reinforced composites for broadband electromagnetic absorption[J]. Ceramics International, 2019,45(9):11475-11483.
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