最近Nature Communications 期刊發(fā)布了一篇研究論文“Fabrication of arbitrary three-dimensional suspended hollow microstructures in transparent fused silica glass”,微加工3D打印技術生成高精度的石英玻璃中空微結構。
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2019-8-1 16:51 上傳
石英玻璃中的三維微流體混合器結構,來源:Nature
3D打印消失模板
熔融石英玻璃中的微結構通常通過濕法化學或干法蝕刻工藝制造。更復雜的結構可以用精密玻璃成形法,溶膠-凝膠或復制粉末爆破來制造。然而,所有這些技術僅能夠制造開放的二維通道結構,需要與平面基板結合才能夠制造簡單的懸浮中空微結構(例如,微流體通道)。
根據(jù)研究論文,通過常用工藝難以在熔融石英玻璃內(nèi)部形成自由形狀的中空結構。使用飛秒激光寫入以及用諸如氫氟酸(HF)之類的侵蝕性化學物質(zhì)連續(xù)蝕刻照射區(qū)域是其中一種方法,但該方法在制造具有很少入口的長通道結構時,容易產(chǎn)生出現(xiàn)不均勻的情況,在制造錐形通道結構時,易導致朝向通道入口處的尺寸更寬。另外,溝道長度也會受到蝕刻工藝的限制,因為HF蝕刻顯示蝕刻速度隨溝道長度而減小,并且碎屑可快速阻擋溝道 。
為了克服這些問題,科研領域探索了不同的技術,但這些技術只適合制造簡單的通道幾何形狀。如為了克服對侵蝕性蝕刻解決方案的需求,有的科研人員開發(fā)了液體輔助消融的飛秒激光寫入 ,這種技術產(chǎn)生具有顯著表面粗糙度成分,因此需要通過后處理才能夠得到滿足光學質(zhì)量的表面。
研究論文描述了一種能夠生成石英玻璃復雜3D微結構的工藝,具體來說,科研人員使用Nanoscribe 雙光子3D打印技術制造了生成石英玻璃微流體通道的消失模板,微型的3D打印消失模板采用聚合物材料制造。
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2019-8-1 16:51 上傳
科研人員將該3D打印微結構澆鑄在液體納米復合玻璃材料中,隨后用UV光在聚合物模板的頂部進行照光固化。然后對該結構進行熱處理,將納米復合材料轉(zhuǎn)變成熔融石英玻璃,并從內(nèi)部熔化3D打印模板,在此過程中,溫度高達1300攝氏度,最終制造出帶有中空復雜微通道的石英玻璃結構。
在對這一工藝進行研究的過程中,研究團隊成功的制造出直徑小至7微米的通道。通過石英玻璃混合器等精密測試部件,研究團隊展示了通過這種結合微型3D打印技術的工藝在制造復雜玻璃產(chǎn)品領域的可行性,也為玻璃材料的微細加工提供了可行性。
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2019-8-1 17:45 上傳
△熔融石英玻璃中懸浮中空微結構的制備。 a聚合物纖維嵌入無定形二氧化硅納米復合材料中。聚合的納米復合材料通過熱脫脂和燒結轉(zhuǎn)變?yōu)槿廴谑⒉AА?在熱脫脂過程中除去聚合物模板并離開相應的空腔。 b Micro流體熔融石英芯片,通過嵌入尼龍線(比例尺:9 mm)制成。通過嵌入由微光刻法構建的聚合PEGDA(比例尺:11 mm)制造的微流體曲折。 d A網(wǎng)狀結構使用熔融電解(frmark bar:5mm)制備frompoly(ε-己內(nèi)酯)。 插圖顯示了網(wǎng)眼的顯微鏡圖像,其光纖直徑為25.0μm(比例尺:100μm)。 e熔融石英玻璃的中空網(wǎng)狀結構(比例尺:4.5 mm)。 插圖顯示寬度約為18.4μm的微腔(比例尺:100μm)
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2019-8-1 17:45 上傳
△STR使用直接激光寫入產(chǎn)生的模板。 a Polymeric DNA雙螺旋(比例:500μm)。 b 熔融石英玻璃的反向結構(比例尺:400μm)。 最小通道尺寸為20μm。 c Intertwined螺旋(比例:900微米)。 d Resulting在熔融石英玻璃中纏繞微流體螺旋通道,通道寬度為74μm。 通道填充有染料(參見插圖,比例:140μm)。 面外混合器結構的e聚合物微結構(比例:600μm)。 熔融石英玻璃中的fMicro流體混合器結構,通道寬度為74μm(比例尺:280μm)。 可以看出,3D結構可以高度復雜地復制而且沒有變形。
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2019-8-1 17:45 上傳
△熔融石英中懸浮空心微結構的表征。 a,b SEM的矩形通道橫截面,縱橫比為0.1和10(比例:100μm)。 c -f SEM為球形,三角形,梯形和矩形通道橫截面(比例尺:10μm)。 所有模板都是使用直接激光寫入制作的。 “球形”通道橫截面的fl參與側(cè)是由于模板的雙光子聚合3D打印過程。結構被印刷在載玻片上并且需要一定的接觸區(qū)域以防止結構從玻璃上脫離。 g,h SEM和白光干涉測量通道結構,平均粗糙度為Ra~20 nm(比例尺:10μm)
方法
材料。
Aerosil OX50型無定形二氧化硅納米粉末由德國Evonik友情提供。購買的甲基丙烯酸羥乙酯(HEMA),來自德國Alfa Aesar。四乙二醇二丙烯酸酯(TEGDA),聚乙二醇二丙烯酸酯550(PEGDA-550),苯基雙(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦,丙二醇甲醚乙酸酯(PGMEA)和2.2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮(DMPAP)購自Sigma-Aldrich。負性光刻膠IP-S購自德國Nanoscribe。 2-丙醇購自德國Carl Roth。
直接激光寫入。
在制造過程中使用之前,玻璃基板(25×來自德國Nanoscribe GmbH的25×0.7mm)通過氧等離子體活化,增強光致抗蝕劑對玻璃的粘附性。請注意,不建議進行額外的硅烷化,因為發(fā)現(xiàn)粘合也是如此。當嵌入納米復合材料中時,聚合物強烈地從基材上分離。使用商業(yè)光刻系統(tǒng)制造3D物體Photonic Professional GT(Nanoscribe GmbH,德國)。使用負性光刻膠IP-S作為光刻膠并將其滴加在活化的基板上。將切片距離設定為1μm(“Describe,Nanoscribe GmbH,Germany”軟件中的“IPS配方”),將寫入速度設定為100mm s-1。數(shù)字物鏡的孔徑為NA = 0.8,有效工作距離為400微米。已經(jīng)成功地探索了實體寫作和核殼方法。
曝光后,將樣品在PGMEA中顯影10分鐘并用其沖洗另一次PGMEA浴30秒。
光刻。
將PEGDA-550與0.5m%的光引發(fā)劑苯基雙(2,4,6-三甲基苯甲;┭趸⒒旌。然后構建PEGDA-550使用基于數(shù)字鏡像設備(DMD)的定制光刻系統(tǒng)49。在365nm的波長下進行結構化,曝光強度為365nm,持續(xù)28s2.6 mW cm-2。曝光后,聚合物結構在2-中顯影丙醇30秒。
微結構的轉(zhuǎn)移。微結構在載玻片上制造并將納米復合材料澆鑄在頂部。聚合后,納米復合材料將嵌入的微結構從玻璃和開放結構上剝離
用第二層納米復合材料密封。該過程如補充圖1所示。納米復合材料的結合強度高于400kPa(使用拉伸測試測試)允許舒適地處理聚合的納米復合材料。燒結后不含任何塊狀玻璃組分獲得內(nèi)部接口。
熔融電解。
PCL(PC-12,Corbion,荷蘭)按原樣使用并使用定制的熔融電泳打印機50進行加工。一克PCL將其置于電加熱(75℃)注射器中并氣動輸送至使用空氣(1.0 bar)的23 G噴嘴。該噴嘴位于收集器上方6 mm處,并且在該收集器距離上施加總共5.5kV。直接寫作是使用x / y線性階段進行,并將樣品用作犧牲模板沒有后期處理。
納米復合材料的制備。
在該工作中使用的納米復合材料由68體積%的HEMA,7體積%的TEGDA和25體積%的POE組成,它們是在分散過程之前混合23。然后40體積%Aerosil OX50分散在單體混合物中。納米粉末添加量很小,使用實驗室溶解器(R 130,IKA,德國)遞增至該混合物。
然后在30分鐘的進一步分散步驟之后加入0.5m%(參考反應性單體的量)的光引發(fā)劑DMPAP。使用干燥器和真空泵除去夾帶的氣泡。
納米復合材料的嵌入和聚合。
用于嵌入納米復合材料聚合物長絲進入納米復合材料后,后者在加熱到60°C之前鑄造過程。這降低了截留氣泡的風險。該隨后在300-400nm的波長下聚合納米復合材料曝光強度為12 mW cm-2,持續(xù)2 min。
熱處理。
使用灰化爐(AAF型)進行熱脫脂,Carbolite / Gero,德國)。使用管式爐(STF16 /型)進行燒結450,Carbolite / Gero Germany),溫度為1300℃,壓力為5×10-2mbar,加熱速率為3K min-1。熱脫脂的參數(shù)和燒結可以在補充表1中找到。
3D打印夾具的制作:用于連接管道的設計夾具玻璃芯片使用3D打印機(ProJet MJP 2500/2500 Plus,來自VisiJet®M2R-CL樹脂的3D系統(tǒng),美國)。
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https://www.researchgate.net/pub ... _fused_silica_glass
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